Produksi Wafer Silikon

Proses Produksi Wafer Silikon

Kami menyediakan{0}}wafer silikon berkualitas tinggi yang mendukung industri semikonduktor terdepan. Bahan baku dengan tingkat kualitas tertinggi digunakan sebagai bahan wafer silikon. Wafer diproduksi di bawah kendali kualitas yang paling ketat untuk menciptakan produk yang memenuhi kebutuhan pelanggan dalam berbagai cara.

Terbuat Dari Bahan Baku Terbaik, Sehingga Kualitasnya Dapat Diandalkan

Ingot Monokristalin

Wafer silikon yang kami pasok terbuat dari ingot silikon monokristalin dengan kemurnian tinggi, diproduksi menggunakan proses pertumbuhan kristal Czochralski (CZ). Ingot dengan diameter hingga 300 mm diproduksi di bawah standar kendali mutu yang ketat.

Jika diminta oleh pelanggan, kami juga menggunakan metode Magnetic Czochralski (MCZ), yang melibatkan penerapan medan magnet yang kuat pada silikon cair, atau metode Float-Zone (FZ), di mana ingot monokristalin ditanam pada tingkat oksigen rendah tanpa menggunakan wadah kuarsa.

Ingot monokristalin dipotong menjadi irisan setebal kira-kira 1 mm, dengan permukaan dipoles hingga menjadi seperti cermin. Hasilnya, wafer menjadi sangat rata dan bersih. SUMCO juga dapat menggabungkan kemampuan pengambilan ke dalam wafer, yang membantu menangkap kotoran logam berat yang dapat menurunkan sifat listrik.

Wafer yang dipoles mengalami anil suhu tinggi dalam atmosfer hidrogen atau argon, menghilangkan oksigen di dekat permukaan wafer. Wafer yang dihasilkan telah meningkatkan kesempurnaan kristal.

Untuk Kualitas Unggul

Lapisan permukaan wafer yang dipoles dibentuk dari silikon monokristalin menggunakan pertumbuhan fase uap, atau epitaksi.

Pertama, desain pelanggan digunakan untuk membuat lapisan penyematan sirkuit terpadu pada permukaan wafer, memanfaatkan teknik seperti fotolitografi, implantasi ion, dan difusi termal. Selanjutnya, lapisan epitaksial terbentuk di atas lapisan ini.

Lapisan oksida dengan sifat isolasi listrik yang sangat baik ditempatkan di antara dua wafer yang dipoles, yang kemudian diikat menjadi satu. Proses pengikatan ini memungkinkan terciptanya perangkat dengan integrasi tinggi, konsumsi daya rendah, kecepatan tinggi, dan keandalan luar biasa. Selain itu, lapisan difusi arsenik (As) atau antimon (Sb) dapat terbentuk pada lapisan aktif pada permukaan wafer.

Berdasarkan permintaan pelanggan, wafer bekas dapat diambil kembali dan didaur ulang untuk digunakan kembali.

Jenis Dan Spesifikasi Wafer